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Lumina薄膜缺陷檢測儀

簡要描述:Lumina AT2薄膜缺陷檢測儀實現(xiàn)亞納米薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應(yīng)力點和其他缺陷的全表面掃描和成像。實用于透明、硅、化合物半導(dǎo)體和金屬基底。在2分鐘內(nèi)掃描并顯示300毫米晶圓。動態(tài)補償表面翹曲。可以標(biāo)刻出缺陷的位置,以便進一步分析。可容納高達(dá)450 x 450 mm的非圓形和易碎基板。能夠通過一次掃描分離透明基板上的頂部/底部特征。

  • 產(chǎn)品型號:AT2
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-06-28
  • 訪  問  量:718
產(chǎn)品詳情

Lumina薄膜缺陷檢測儀

產(chǎn)品特點

  • 實現(xiàn)亞納米薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應(yīng)力點和其他缺陷的全表面掃描和成像。

  • 實用于透明、硅、化合物半導(dǎo)體和金屬基底。

  • 在2分鐘內(nèi)掃描并顯示300毫米晶圓。

  • 動態(tài)補償表面翹曲。

  • 可以標(biāo)刻出缺陷的位置,以便進一步分析。

  • 可容納高達(dá)450 x 450 mm的非圓形和易碎基板。

  • 能夠通過一次掃描分離透明基板上的頂部/底部特征。


系統(tǒng)優(yōu)勢的四個檢測通道:

  • 偏光(污漬、薄膜不均勻性) 

  • 坡度(劃痕、表面形貌)

  • 反射率(內(nèi)應(yīng)力、條紋)

  • 暗場(顆粒、夾雜物)


AT2應(yīng)用:

1.透明基底上的缺陷

Lumina薄膜缺陷檢測儀

Lumina薄膜缺陷檢測儀

Lumina薄膜缺陷檢測儀



2.單層污漬或薄膜不均勻性

Lumina薄膜缺陷檢測儀

3.化合物半導(dǎo)體的晶體缺陷

Lumina薄膜缺陷檢測儀

在化合物半導(dǎo)體基底和外延生長層上檢測和分類多種類型的晶體缺陷


AT2的多用途:

  • 缺陷類型

  • 薄厚基板

  • 透明和不透明基板

  • 電介質(zhì)涂層

  • 金屬涂層

  • 鍵合硅片

  • 開發(fā)和在線生產(chǎn)



AT2 軟件使用來自多個探測器任意組合的數(shù)據(jù)生成缺陷圖和報告:

  • 地圖和位置

  • 缺陷數(shù)量

  • 彩色編碼缺陷

  • 缺陷尺寸


Lumina薄膜缺陷檢測儀




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